OSM交叉采样重绘

这是一个交叉采样的工艺，采用SD1.5和Flux交叉采样，从而可以解决FLUX风格化力度不够的问题。本工序可以在SD1.5的LORA风格和FLUX的LORA风格中实现无缝切换。同时支持SD1.5和Flux的CN控制。同时支持FLUX的REDUX风格迁移。当FLUX降噪级别低于0.4的时候，会更倾向于SD1.5的采样结果。当FLUX降噪级别超过0.4之后，会更倾向于FLUX的采样结果。